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6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato

6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato

    • 6h 2 Inch 4 Inch 6 Inch Polished High Temperature Silicon Carbide Sic Substrate Wafer
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    Datos del producto:

    Lugar de origen: Guangdong, China
    Nombre de la marca: ANG
    Certificación: ISO
    Número de modelo: Ang-H6

    Pago y Envío Términos:

    Cantidad de orden mínima: 100
    Precio: Depend on size and quantity
    Detalles de empaquetado: 1pc por caja
    Tiempo de entrega: 8~10 días laborables
    Condiciones de pago: T/T, Western Union, Paypal y otros servicios
    Capacidad de la fuente: 500,000PCS por mes
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    Descripción detallada del producto
    MPD: < 2 cm-2 Grado: Grado de la producción
    Resistencia: 0.015-0.1 Ohm.Cm Especificación: 2 pulgadas/4 pulgadas/6 pulgadas

    6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato

     

     

    6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato Wafer de carburo de silicio

    El carburo de silicio (SiC), también conocido como carborundo, es un semiconductor que contiene silicio y carbono con fórmula química SiC.El SiC se utiliza en dispositivos electrónicos semiconductores que funcionan a altas temperaturas o altos voltajesSiC es también una de las
    Los componentes importantes del LED, es un sustrato popular para el crecimiento de dispositivos GaN y también sirve como un dispersor de calor en alta potencia
    Los LEDs.

    Tamaño personalizado/2 pulgadas/3 pulgadas/4 pulgadas/6 pulgadas 6H-N/4 H-SEMI/ 4H-N lingotes SIC/ alta pureza 4H-N 4 pulgadas 6 pulgadas diámetro 150 mm carburo de silicio

    con un contenido de sodio superior o igual a 80% en peso

     

    Especificación

    Propiedad
    4H-SiC, cristal único
    6H-SiC, cristal único
    Parámetros de la red
    a=3,076 Å c=10,053 Å
    a=3.073 Å c=15.117 Å
    Secuencia de apilamiento
    El ABCB
    El ABCACB
    Dureza de Mohs
    ≈9.2
    ≈9.2
    Densidad
    3.21 g/cm3
    3.21 g/cm3
    Coeficiente de expansión térmica
    4 a 5 × 10 a 6/K
    4 a 5 × 10 a 6/K
    Indice de refracción @750nm
    no = 2.61
    n = 2.66
    no = 2.60
    n = 2.65
    Constante dieléctrica
    C ~ 9.66
    C ~ 9.66
    Conductividad térmica (tipo N, 0,02 ohm.cm)
    a ~ 4,2 W/cm·K@298K
    C ~ 3,7 W/cm·K@298K
     
    Conductividad térmica (semi-aislante)
    a ~ 4,9 W/cm·K@298K
    C ~ 3,9 W/cm·K@298K
    a~4,6 W/cm·K@298K
    C ~ 3,2 W/cm·K@298K
    - ¿ Qué haces?
    3.23 eV
    3.02 eV
    Campo eléctrico de ruptura
    3 a 5 × 106 V/cm
    3 a 5 × 106 V/cm
    Velocidad de deriva de saturación
    2.0 × 105 m/s
    2.0 × 105 m/s


    4H-N 4 pulgadas de diámetro de carburo de silicio (SiC) Especificación del sustrato

    2 pulgadas de diámetro de carburo de silicio (SiC) especificación del sustrato
    Grado
    Grado de MPD cero
    Grado de producción
    Grado de investigación
    Grado de imitación
    Diámetro
    100. mm±0,2 mm u otro tamaño personalizado
    El grosor
    1000±25 mm O otro grosor a medida
    Orientación de la oblea
    Fuera del eje: 4,0° hacia <1120> ±0,5°
    para 4H-N/4H-SI En el eje : <0001>± 0,5° para 6H-N/6H-SI/4H-N/4H-SI
    Densidad de los microtubos
    ≤ 0 cm2
    ≤ 2 cm-2
    ≤ 5 cm2
    ≤ 30 cm2
    Resistencia 4H-N
    0.015 ~ 0.028 Ω•cm
    Resistencia 4/6H-SI
    ≥1E7 Ω·cm
    Piso primario
    {10-10} ± 5,0° o de forma redonda
    Duración plana primaria
    18.5 mm±2.0 mm o de forma redonda
    Duración plana secundaria
    10.0 mm±2.0 mm
    Orientación plana secundaria
    Silicón hacia arriba: 90° CW. desde el plano Prime ±5,0°
    Exclusión de los bordes
    1 mm
    TTV/Bow/Warp
    Se aplicarán las siguientes medidas:
    La rugosidad
    Polish Ra≤1 nm / CMP Ra≤0,5 nm
    Las grietas causadas por la luz de alta intensidad
    No hay
    1 permitido, ≤ 2 mm
    Duración acumulada ≤ 10 mm, longitud única ≤ 2 mm
    Placas hexagonales por luz de alta intensidad
    Área acumulada ≤ 1%
    Área acumulada ≤ 1%
    Área acumulada ≤ 3%
    Áreas de politipo por luz de alta intensidad
    No hay
    Área acumulada ≤ 2%
    Área acumulada ≤ 5%
    Rasguños por luz de alta intensidad
    3 rasguños a 1 × longitud acumulada del diámetro de la oblea
    5 rasguños a 1 × longitud acumulada del diámetro de la oblea
    5 rasguños a 1 × longitud acumulada del diámetro de la oblea
    el chip de borde
    No hay
    3 permitidos, ≤ 0,5 mm cada uno
    5 permitidos, ≤ 1 mm cada uno

     

     

    Tamaño común

    Tipo 4H-N / obleas de SiC de alta pureza / lingotes
    Wafer SiC de tipo N de 2 pulgadas y 4H
    Wafer SiC de tipo N de 3 pulgadas y 4H
    Wafer SiC de tipo N de 4 pulgadas y 4H
    Wafer SiC de tipo N de 6 pulgadas 4H/lingotes
    Wafer de SiC de alta pureza de 4H semi-aislante
    2 pulgadas 4H Wafer de SiC semi-aislante
    Wafer de SiC de 3 pulgadas 4H semisoladora
    4 pulgadas 4H Wafer de SiC semi-aislante
    Wafer de SiC de 6 pulgadas 4H semi-aislante
    Wafer SiC de tipo N de 6H
    Wafer SiC de tipo N de 2 pulgadas 6H/lingota
    Tamaño personalizado para 2-6 pulgadas

     

     

    6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato

     

    Aplicación

     

    6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato

     

    Paquete

    6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato

    6h 2 pulgadas 4 pulgadas 6 pulgadas de alta temperatura pulida de carburo de silicio Sic Wafer de sustrato

    Contacto
    Shenzhen A.N.G Technology Co., Ltd

    Persona de Contacto: Miss. Dora

    Teléfono: 86-755-26407256

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